“单片晶圆排布 15 万颗微透镜、拼版定位误差 <1μm。”

正在深圳召开的第27届中国国际光电博览会（CIOE）现场，西湖大学光电研究院（西光电）展位前人头攒动。

作为展团“核心重头戏”的西光电微纳加工平台，日前已成功落地国内稀缺的纳米压印微透镜阵列拼版工艺。

现场，微纳加工平台的技术专家带来了微透镜等样品，并向来自全国和世界各地的同行展示交流。

据悉，在光通讯、AR光学、智能传感、超表面器件等前沿领域，晶圆级大阵列微透镜制备、高精度拼版工艺长期是行业技术壁垒，国内可实现完整自主工艺贯通的公共平台极为稀缺。

依托“浙江光谷、富春芯城”核心科创载体优势，西光电微纳加工平台实现关键技术突破，成功打通纳米压印微透镜阵列拼版全链路工艺，完成从结构设计、模板开发、纳米压印成型到晶圆级规模化制备的从0到1自主落地，补齐国内晶圆级微纳光学工艺供给短板，为国内光电前沿器件研发提供关键工艺支撑。

01 硬核工艺

国内稀缺的微透镜阵列拼版工艺能力

本次攻坚的微透镜阵列拼版技术，是晶圆级光学器件产业化研发的核心卡点，具备高精密、高异质性、高保形性的核心技术优势。目前国内同业中，能够自主完成全套微透镜阵列设计、精密拼版、整片晶圆成型的公共工艺平台极少。

西光电微纳加工平台可实现2.1×2.1cm单元规模化阵列制备，单元集成2880颗微透镜，单片8寸晶圆可排布52个工艺单元，单片晶圆可制备约15万颗微透镜。工艺拼版定位误差＜1um，结构成型保形性可控在5%以内，可精准复刻微纳光学结构样貌，适配光通讯领域精密器件研发需求。

微透镜阵列（MLA）

02 工艺攻坚

完成技术迭代，构建本土化工艺体系

为筑牢工艺自主化能力，西光电微纳加工平台联合设备原厂开展专项技术培训，聚焦模板制备、母版开发、工艺参数优化等核心关键环节，系统性打磨自主工艺开发、迭代、优化能力，搭建自有的纳米压印微透镜工艺体系，实现从设备应用到核心工艺自研的关键跨越。

03 产业落地

即将实现8寸晶圆试样交付

依托完备的工艺闭环能力，西光电微纳加工平台将于近期完成首批8寸晶圆微透镜试样交付，这也标志着平台正式具备晶圆级微透镜阵列定制开发、规模化试样、工艺协同攻关的服务能力。接下来，平台有望有效解决行业前沿光学器件研发门槛高、高端拼版工艺稀缺、试样迭代周期长的痛点，能够为企业、科研团队提供低成本、高效率的微纳光学工艺解决方案。

8寸晶圆微透镜阵列拼版

04 能力沉淀

多品类纳米压印工艺实现产业化交付

本次微透镜阵列拼版工艺的突破，是平台纳米压印技术体系的迭代升级，目前平台已构建“在研攻坚+成熟交付”的多层次微纳结构工艺矩阵，多项技术已落地产业化服务，收获市场高度认可：

• 攻坚迭代工艺：微透镜阵列（MLA）拼版工艺，聚焦光通讯器件前沿赛道，当前已完成晶圆级结构成型，即将开启客户试样验证；

  
  

• 成熟交付工艺：光栅结构（SRG）拼版工艺，已顺利完成两个产业化项目交付，工艺成熟、交付稳定；

  
  

• 市场化落地工艺：高折胶纳米压印工艺，已实现批量试样交付，广泛应用于AR眼镜，交付口碑与客户满意度优。

05 产业价值

夯实区域光电产业核心竞争力

凭借稀缺的多材料微纳加工与纳米压印拼版核心能力，西光电微纳加工平台技术可全面适配AR/VR消费电子、光通讯器件、工业物联网传感器、光互联/光计算、生物医学检测等前沿领域。

当前，西光电正持续完善“设计-制造-测试”一体化服务体系，以硬核工艺突破集聚产业链资源，夯实“富春芯城”产业基底，持续为区域光电产业创新发展注入核心技术动能。

西光电微纳加工平台长期面向全国高校、科研院所、光电产业链企业开放协同合作，欢迎技术对接、试样试制、联合工艺攻关。

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